半導體行業廢氣處理 中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分,在工藝過程中,這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。其廢氣的主體是VOCs,同時廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險污染物,分離和處理難度比較大。
耀先環境廢氣粉塵治理15年經驗
半導體行業VOCs廢氣處理焚燒爐RTO技術工藝原理介紹:
焚燒爐RTO技術工藝其原理是有機廢氣經過旋轉分配閥進入蓄熱室預熱,然后進入氧化室,加熱升溫到800℃以上使有機廢氣氧化分解成CO2和H2O;從而凈化廢氣,并回收廢氣分解時所釋放出來的熱量,廢氣分解效率高達99.5 %,熱利用效率達到95%以上。旋轉式RTO實現爐體和閥門的相對獨立,同時便于安裝與維護,結構緊湊,占地面積小。廢氣通過連續運轉的旋轉分配閥交替均勻引入,氣流順暢,出口波動范圍小,12個蓄熱室交替工作,節約設備能耗。旋轉式RTO是我公司在消化、吸收外技術的基礎上,采取“引進+積累+改進+創新”的方式,自主研發設計的一款有機廢氣治理設備。
半導體行業廢氣處理焚燒爐RTO設備的優勢:
1、設有安全泄溫閥,若燃燒室溫>設置限值,泄溫閥開啟,確保安全溫度運轉;
2、整套系統采用PLC全自動化控制技術,節能省力,實現無人控制、自動報警,安全可靠;
3、設有泄爆口,若爐內壓力大幅度提升,泄爆口自動開啟,合理泄除壓力,確保正常運轉;
4、多級安全防護系統,確保蓄熱焚燒爐設備系統安全穩定運行;
5、壓力波動小,出口濃度波動小;
6、占地面積小。
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